トリプルビーム（FIB-SEM-Ar）複合装置の大気遮断対応
Focused Ion Beam/Scanning Electron Microscope/Argon ion beam
Hybrid System without exposing to atmosphere

1. 特徴

FIBのGaイオンビーム、SEMの電子ビーム、Arイオン銃のArイオンビームが同一位置で交差するアライメントとなっているため、低い加工ダメージで高い精度の加工ができる装置（装置資料「トリプルビーム（FIB-SEM-Ar）複合装置」参照）を用いて、試料を大気遮断状態で、サンプリングからSEM/TEM/STEM観察まで行えるようになりました。

2. 原理

1. グローブボックス内でサンプリングした試料を大気と接触させることなく、FIB装置に導入します。
2. Gaイオンにより材料のFIB加工を行います。
3. 加工前、加工中、加工後の試料をSEM観察できます。
4. Arイオンを照射することで、より精密な加工が可能となります。
5. TEM試料を大気非暴露で、グローブボックスを介してCs補正STEM装置に導入します。

3. 性能と仕様

型式：VTD2500

4. 試料の形状、サイズ

φ10mm×t7.0mm以下

5. 分析依頼時の留意点

真空中でGaイオンや電子を照射します。その条件下で試料が安定である必要があります。

6. 適用例

• 大気との接触により変質する恐れがある試料