HOME > 分析機能(装置) > 無機分析
S1403

電子線マイクロアナライザー(FE-EPMA)

1. メーカー・型式

日本電子製     JXA-8530F

2. 特徴

EPMA装置の概略図

EPMA装置の概略図

EPMAは、目で見たような画像を高倍率で観察でき、希望箇所の成分を測定できるので、何が起こっているのか、現象を把握するための強力な道具となります。EPMAには、ピークが近接する元素でも識別できる波長分散型分光器と、頑強な試料ステージが装備されているため、より広範囲の分析や、多数の元素が混在する複雑な材料系でも対応できるという特徴があります。同じように観察と組成分析ができるSEM-EDSに比べると、装置の自由度に制約はありますが、SEM-EDSで対応が困難な場合に、EPMAでの分析を行います。

3. 原理、概略図

電子線を試料に照射して、試料形状に忠実な画像(二次電子像)や、組成の違いを反映した画像(反射電子像)で観察します(SEM機能)。
元素分析のためには、試料から発生する特性X線を、波長分散型分光器(WDS)で検出・分析します。WDSは測定位置の誤差に敏感なため、正確な高さ合わせのための光学顕微鏡と頑強なステージが装備されています。

3. 性能、仕様

機器名 日本電子製 JXA-8530F
電子銃 電界放出型
分解能 二次電子像3nm(30kV)分析条件により変動
倍率 ×40〜×300,000
検出信号 二次電子像、反射電子像、特性X線

4. 試料形状・サイズ

形状 通常25mmφ×10mm厚以下 最大90mm ×90mm ×20mm厚以下
加工 機械研磨、ミクロトーム法、CP法、FIB法による面出しおよび断面加工
性状 試料作製時に、水・有機溶媒や各種樹脂等を使用するため、耐熱性、吸湿性、耐薬品性等の情報が必要

5. 分析依頼の際の留意点

  • 測定に際しては、試料を真空中に設置します。
  • 必要に応じ、金属コーティングなどの導電処理を実施します。

6. 種々検出信号による測定データ

二次電子像:形状を拡大観察します

二次電子像

元素マッピング:元素の分布をイメージ化します

元素マッピング

WDS分光法による元素分析:EDS法に比べ、精密な分析に適しています

WDS分光法による元素分析
前のページに戻るこのページのトップへ