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S1405

大気非曝露冷却クロスセクションポリッシャ

1. 型式

日本電子製     クロスセクションポリッシャ     IB-09020CP

2. 原理および特徴

図:装置概観

図:装置概観

クロスセクションポリッシャは、試料面上にセットされた遮蔽板にイオンビームを垂直に照射し、イオン照射を受けエッチングされる領域と、遮蔽板で遮蔽される領域の境界に沿って断面を形成させる試料作製装置で、機械的な応力をかけずに1mmφ程度の面積の断面を形成できる特徴があります。

本装置は、これに大気非曝露機構と試料冷却機構を組み込むことで、大気非曝露環境下での試料調製と共通のトランスファーベッセルを用いて、Ptコーティング・SEM-EDS分析を大気非曝露環境で行なうことができます。また、試料を冷却することで、熱ダメージの少ない断面試料を作製できます。

3. 主な性能、仕様、付属品

加工イオン アルゴン
イオン加速電圧       2〜8kV
イオンビーム径半値幅 500μm(加速電圧:6kV、試料:Si)
ミリングスピード 100μm/H以上
(加速電圧:6kV、試料:Si、エッジ距離:100μm)
最大搭載試料サイズ 幅11mm×長さ10mm×厚さ2mm
試料移動範囲 X軸±10mm、Y軸±3mm
試料角度調整範囲 ±5°
断面位置決め精度 10〜20μm程度(光学顕微鏡下)
冷媒 液体窒素
ホルダー冷却到達温度 -120℃以下
試料冷却保持時間 8時間以上
パージ用ガス アルゴン

4. 応用分野・分析例

  • 大気遮断CPによるリチウムイオン電池の断面解析
  • 冷却CPによるハンダ基板の断面解析
  • 超硬工具のCP断面加工

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