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X0001

表面構造評価用 多機能X線回折装置(XRD)

1. メーカー・型式

リガク製     ATX-G

2. 原理・特徴

図:ATX-G装置の原理・特徴
  1. 全反射臨界角以下でX線を入射させると非常に浅い部分(数nm)を表面に沿って平行に走るX線が現れ、基板に垂直な回折面とBragg回折を生じ面内(In-Plane)回折X線として出射します。この回折角:2θより薄膜表面の格子定数や結晶性を2次元的に直接評価でき、さらに、入射角度を精密に制御すれば、深さ方向の構造解析も可能となります。
  2. 反射率より薄膜の厚さ、密度、界面のラフネスも評価できます。
  3. 4結晶モノクロメータで単色・平行化した入射X線により、単結晶薄膜及び超格子素子の結晶性解析、膜厚評価、周期解析、逆格子強度マップ測定が可能です。
  4. 完全極点測定により多結晶薄膜の配向や結晶性も評価できます。

3. 性能・仕様

X線源 Cu、18kW
入射光学系(I) 人工多層膜放物面ミラー
入射光学系(II) Ge(440)チャンネルカット
精密ゴニオメータ 本装置独自の4軸ゴニオメータ
試料ステージ 6軸駆動(直交煽り専用調整軸:2軸)
受光光学系 Ge(220)チャンネルカット

4. 最大取付け試料サイズ

4インチウエハ

5. 分析依頼の際の留意点

5mm角程度でも測定可能ですが、なるべく広い面積でお願いします。

6. 応用分野・分析例

  • 磁気ディスク媒体のIn-Plane回折法による2次元構造評価
  • 発光材料のX線反射率による膜厚、密度、ラフネス解析
  • 多層薄膜の深さ制御In-Plane回折法による構造解析
  • 多結晶薄膜の完全極点測定による結晶配向性評価
  • 結晶性高分子表面における分子鎖の配向性評価
  • 多結晶薄膜の面内応力評価
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