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B0901

レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置

1. 型式

LA-950V2     株式会社堀場製作所製

2. 原理

レーザー光(半導体、LED)を粒子に照射すると粒子から散乱光(回折)が生じます。その散乱光強度と散乱角度の関係を検出し、Mie散乱理論に基づいて粒度分布を算出します。

写真1:装置外観

写真1:装置外観

写真2:光学系

写真2:光学系

3. 性能

測定原理 Mie散乱理論
測定範囲
  • フローセル    0.01μm〜3,000μm
  • ミニフローセル  0.01μm〜1,000μm
  • 乾式測定    0.1μm〜3,000μm
測定方式 フローセル、ミニフローセル、バッチセル、乾式測定
使用可能分散媒 水、各種有機溶媒
分散媒量 フローセル180ml、ミニフローセル40ml、バッチセル15ml
光学系 半導体レーザー(650nm)、LED(405nm)
サンプル量 10mg〜1g(乾式測定は数g〜が望ましい)

4. 解析項目

メジアン径、平均径、モード径、累積頻度%径、累積頻度%値等

5. 応用分野と分析事例

セラミック、触媒、セメント、金属、電池材料、医薬品(GMP対応可)、食品

  • 電子セラミック粉末原料の粒度分布評価
  • 顔料の粒度分布評価
  • フライアッシュの粒度分布評価
  • カーボンブラックの分散状態評価
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