走査型Ｘ線光電子分光装置（µ-ESCA（XPS））

1. メーカー・型式

ULVAC-PHI社製     Quantum 2000

2. 原理・特徴

1. 試料に一定のエネルギーを持ったＸ線を照射して光電効果により発生する電子の運動エネルギーを測定することにより、試料表面（〜数十Å）に存在する元素と原子価状態を調べる。
2. Ｘ線ビームを絞り、走査することにより、最小10μｍから500μｍまでの領域が分析できる。
3. エッチングガンを併用することにより、試料の深さ方向の分析ができる。
4. 非破壊で分析できる。

写真：Quantum 2000の外観	図：ESCA装置の概略図

3. 性能・仕様・付属品

4. 試料形状・サイズ

固体（70mm×70mm×5mm（t）以下）または粉末

5. 分析依頼の際の留意点

試料の取扱の際、試料表面の汚染に注意して下さい。真空中で揮発する試料は測定できません。

6. 応用分野・分析例

• 半導体、電子材料の微小部分の分析
• セラミックス材料（Si₃N₄、SiC、シリカ、アルミナなど）の表面状態の解析
• ポリマー材料の表面分析
• 触媒の分析
• 金属材料、電極材料の表面分析
• 薄膜材料の分析